极紫外光刻最新资讯-快科技--科技改变将来

　　快科技9月8日动静，EUV光刻机是制制5nm以下工艺的环节设备，同样主要的还有EUV光刻胶，9月4日2025集成电！

　　快科技9月29日动静，半导体工艺越先辈，对光刻机的需求就越高，5nm以下量产更少不了EUV光刻机，目前全球只要ASML公司能供应，台积电、三星、Intel等公司城市向他们下降。 那么这些巨头中谁具有。

　　快科技6月29日动静，全球最大半导体设备龙头ASML已动手研发下一代Hyper NA EUV先辈光刻机，为将来十年的芯片财产做预备。 Jos Benschop暗示，ASML及独家光学合做伙伴蔡司（Carl Zeiss）正正在研究。

　　快科技7月24日动静，据大学官网引见，日前，大学化学系许华平传授团队正在极紫外（EUV）光刻材料上取得主要进展，开辟出一种基于聚碲氧烷的新型光刻胶，为先辈半导体系体例制中的环节材料供给。

　　快科技5月30日动静，大师都晓得，根基都依赖ASML的EUV极紫外光刻机。 按照保守认知，没有EUV就制不出先辈工艺，那有没有其他法子呢。 前段时间，世界上就有一！

　　快科技11月1日动静，前几天收集曝出台积电21年资深高管罗唯仁要跳槽去Intel公司的动静，虽然他曾经于7月份从台积电退休，但此事仍然激发业界关心。 究其缘由，就是罗唯仁虽然曾经是75岁高龄，但。

　　快科技4月14日动静，Intel前任CEO帕特基辛格曾经找到了新工做！本人亲身颁布发表，曾经加盟xLight担任施行董事长。 xLight是一家半导体行业创业公司，次要营业室面向EUV极紫外光刻机，开辟。

　　快科技7月2日动静，据报道，2023岁暮ASML向英特尔交付了首台High-NA EUV光刻机，业界遍及认为，High-NA EUV光刻手艺将正在先辈芯片开辟和下一代处置器的出产中阐扬环节感化。 不外这种环境最。

　　快科技2月26日动静，ASML Twinscan EXE！5000 EUV是当当代界上最先辈的EUV极紫外光刻机，支撑High-NA也就是高孔径，Intel客岁抢先拿下了第一台，目前曾经正在俄勒冈州Fab D1晶圆厂安拆摆设了两台。